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DIREKTSCHREIBENDE MASKENLOSE LITHOGRAFIE

Koordinierung von Lichtquelle und Bewegungssystem.

Wir ermöglichen es Ihnen, sich auf Ihre Prozessdetails zu konzentrieren, während Sie ein neues Maß an Genauigkeit und kleinere Strukturgrößen erreichen.

Prozess-Tool-Triggerung

Wir sind auf die präzise Auslösung externer Prozesswerkzeuge mit geringer Latenzzeit spezialisiert. Unsere Lösungen lösen Prozessgeräte wie Lithografie-Lichtquellen und Direktschreiblaser mit einer Latenzzeit von Nanosekunden aus, basierend auf einer kalibrierten Arbeitspunktposition.

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Präzisionssysteme für Direct-Write-Prozesse

Wir entwickeln und implementieren routinemäßig Systeme für die Verarbeitung im Nanobereich. Gleichzeitige Prozessabläufe werden regelmäßig mit Hilfe von Error Mapping und anderen Techniken gehandhabt, um die feinen Merkmale zu ermöglichen, die die Geräte der nächsten Generation antreiben.

Elektronenstrahl- und Extrem-Ultraviolett (EUV)-Lithographie

Unsere jahrzehntelange Erfahrung mit der Clean-Manufacturing-Technologie und dem Design für magnetische Abschirmung, Partikelmanagement und Vakuumvorbereitung fließt in unsere Hochvakuum (HV)- und Ultrahochvakuum (UHV)- vorbereiteten Positioniersysteme ein.

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Sind Sie auch bereit, die Grenzen der Waferherstellung und -prüfung zu erweitern? Wir tun es bereits.

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